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VGSTUDIO MAXの移動現象シミュレーションモジュールを使用し、様々な材料のCTスキャンで分子拡散性をシミュレートします。
拡散は、高濃度の領域から低濃度の領域への分子の流れを表します。
VGSTUDIO MAXの移動現象シミュレーションモジュール:
分子拡散モジュールは、2コンポーネント材料の定常濃度とモル流束フィールドに関する以下の微分方程式に基づいています。
ₐ
Ωはシミュレーションドメイン全領域であり、Ωₐ はコンポーネント領域(a = 1、2)の定義域です。Ω1 とΩ2はオーバーラップせず、それらの和集合はΩに等しいと想定されます。 Cは分子濃度、Jはモルフラックス、Dₐはコンポーネントaの拡散係数、Δはラプラス演算子、gradは勾配演算子です。
実験モードでは、ソフトウェアは構造のCTデータに対して仮想実験を実行し、互いに平行な入口面から出口面に向かって構造を通過する分子移動をシミュレートします。入口面と出口面に垂直に、密閉または埋め込み境界条件を設定できます。流束の駆動量として濃度差を指定しなければなりません。
結果は、モル流束とモル濃度の2Dおよび3D可視化として表示されます。分子拡散の方向は、2Dおよび3Dの流線によって表示可能です。
次の追加の結果が表ビューで得られます。
次の結果は、流れ方向に沿った曲線プロットとして表示できます。
テンソルモードでは、ソフトウェアは分子拡散テンソルのコンポーネントを計算します。分子拡散テンソルの計算は、構造全体または統合メッシュで構造の増分に対して実行できます。
このソフトウェアにより、 分子拡散テンソルの結果を2Dおよび3Dの可視化データとして得られます。
テンソルの固有値と固有ベクトルに加えて、シミュレーション座標系に関する有効透過性テンソルのコンポーネントが表ビューで表示されます。